碳化硅（SiC）作為一種高性能材料，近年來在半導體行業中備受關注。然而，碳化硅的應用遠不止于此，它不僅用于制造功率器件，還被廣泛應用于多個領域作為磨料、切削工具、結構材料、光學材料以及催化劑載體等。

碳化硅復合陶瓷材料以SiC和Si為主要組分，加入添加劑后成型，然后放置在氮化爐中通入高純氮氣，在一定溫度下氮化燒結而成。碳化硅陶瓷制備方法包括反應燒結法、重結晶燒結法，熱壓燒結法，無壓燒結法等。導體設備用碳化硅零部件包括水冷盤、吸盤和晶舟等，具備高精密、高純度、強耐化學和離子腐蝕能力的特點。碳化硅陶瓷在半導體領域的應用工業窯爐方面，主要應用場景從早先的日用、衛生陶瓷窯爐用結構件等傳統工業結構陶瓷發展為新能源、半導體窯爐用結構件等各類中高端工業結構陶瓷。